真空蒸镀是什么工艺

2021-01-14 18:23:25

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蒸镀是物理气相沉积的一种，与溅射镀膜和离子镀膜相比有其优缺点：设备简单可靠，工艺易于掌握，可以大批量生产，蒸镀的机理简单，大多数物质都可以采用真空蒸镀；而镀层与基材结合力差，高熔点物质和低蒸气压物质的镀膜制作难度大，对于铂、铝等金属来说，蒸镀物质所用的坩埚材料也会蒸发，混入蒸镀物质中成为杂质。

佰利乐真空蒸镀：真空蒸镀是指通过蒸镀工艺，将某种物质在真空中加热蒸发，使其沉积于基材表面，从而得到薄膜的一种技术。挥发后的物质叫做蒸镀材料。法拉第于1857年首次提出蒸发式镀膜工艺，经过一百多年的发展，现在已经成为镀膜工艺的主流技术之一。通常，真空蒸镀系统包括三个部分：真空室、蒸发源或蒸发加热装置、基片放置和给基片加热装置。为了蒸发真空中的待沉积物质，需要一个容器来支持或装入蒸发物，同时还需要提供蒸热以使蒸发物达到所需的蒸汽压。

真空蒸镀

蒸镀过程中各组分均匀度不容易保证，天津真空，具体可调节因素同上，但由于原理限制，对于非单一组分蒸镀而言，各组分均匀度较差。溅射法镀膜可简单理解为利用电子激光或高能激光轰击靶材，将表面组分以原子团或离子的形式溅出，并最终沉积在基体表面，经过成膜过程，最后形成薄膜。在真空镀膜机中，溅射镀膜又分为多种类型，与蒸发镀膜不同的是溅射速率是其主要参数之一。